金属表面处理采用磷化设备，磷化设备中的磷化液一定温度下，碳、氮、硫等元索被金属表面吸附、吸收，形成具有一定深度的表面污染崖。与一般污染层不同，这种污染表面仍可保持金属光泽。
　　把污染表面制备为纯净表面、清洁表面的过程称为表面净化。
　　为了得到纯净的j金属表面，需要去掉表面吸附层与表面亿台物井防止二次污染，因此必须在高真空条件下进行。目前应用*多的是离子溅射法，把金属置于压力的高真空室内、以氲离子进行轰击溅射，为防止二次污染，减少因轰击造成的表面损伤，离子加速高压取200-500V。为进一步减少表面损伤，同时避免在真空退火中内部杂质向表而聚集，可采用离子磺射与真空退火交替进行的方法。离子溅射表面净化方法，不仅可以得到纯净表面，而且可以对金属表面进行莲屉剥离+对一定深度的表面层进行分屡研究。
　　离子溅射表面净化可直接用于离子镀、离于渗氟等表面强化技术中。
　　对清洁表面进行真空退火也可得到纯净表面。对f鼻有易丹晶面的单晶体，可在高真空中用劈分法得到纯净表面，但劈丹法不适用于金属。